Профилометры пучка (beam profile monitors) являются ключевыми инструментами в физике ускорителей для исследования пространственного распределения частиц в пучке. Их основная задача — измерение плотности частиц в поперечном сечении пучка и определение формы пучка, его размеров и симметрии. Это критически важно для оптимизации режима работы ускорителя, минимизации потерь частиц и повышения стабильности пучка.
Профили пучка обычно описываются распределением интенсивности I(x, y) по двум поперечным координатам. В большинстве случаев используются следующие характеристики:
Существуют несколько классов профилометров, различающихся по принципу регистрации пучка:
Струйные профилометры используют тонкую нить, обычно металлическую проволоку диаметром от нескольких микрометров до сотен микрометров, проходящую через пучок. Когда частицы пучка сталкиваются с нитью, возникает:
Преимущества:
Недостатки:
Принцип работы основан на взаимодействии пучка с разреженным газом в камере. Проходящие частицы ионизируют газ, и создаваемые электроны и ионы собираются на электродах. Сбор данных позволяет восстановить профиль пучка.
Преимущества:
Недостатки:
Используются для электронных или ионных пучков с высокой энергией. Варианты включают:
Преимущества:
Недостатки:
Современные методы включают использование полупроводниковых детекторов, CCD и CMOS камер для прямой регистрации пучка. В случае электронных пучков применяется метод электронно-оптического преобразования: воздействие пучка на кристалл или экран вызывает оптическое излучение, которое преобразуется в электрический сигнал.
Преимущества:
Недостатки:
При выборе профилометра учитываются следующие характеристики:
Профилометры пучка используются на разных этапах работы ускорителя:
Важным аспектом является минимизация влияния профилометра на сам пучок. В этом контексте широко применяются бесконтактные методы и профилометры с быстрым сканированием.
Для количественной характеристики пучка часто используют гауссово приближение:
$$ I(x) = I_0 \exp\left(-\frac{(x-x_0)^2}{2\sigma^2}\right), $$
где x0 — центроид пучка, σ — rms-ширина пучка, I0 — максимальная интенсивность.
Для двумерного распределения:
$$ I(x,y) = I_0 \exp\left[-\frac{(x-x_0)^2}{2\sigma_x^2} - \frac{(y-y_0)^2}{2\sigma_y^2}\right]. $$
В случае отклонений от гауссовой формы применяются многокомпонентные аппроксимации или методы восстановления профиля по измерениям на сетке датчиков.