Эксимерные лазеры

Принцип действия эксимерных лазеров

Эксимерные лазеры представляют собой разновидность газовых лазеров, в которых излучение генерируется за счёт переходов между возбужденными состояниями нестабильных молекул — эксимеров (excited dimers) или эксиплексов (excited complexes). Эти молекулы существуют только в возбужденном состоянии, тогда как в основном — не образуются или крайне неустойчивы. Типичный пример — молекулы редкоземельного газа (например, аргона, криптона, ксенона) в соединении с галогенами (фтор, хлор).

Энергетическая схема таких лазеров основана на переходе с возбужденного связанного состояния эксимерной молекулы в основное состояние, которое является потенциально отталкивающим, что обеспечивает крайне быстрое распадение молекулы и облегчает реализацию одночастотного короткоимпульсного генератора.

Типы активных сред

Наиболее широко используются следующие комбинации:

  • ArF (аргон-фторид), длина волны излучения — 193 нм
  • KrF (криптон-фторид), 248 нм
  • XeCl (ксенон-хлорид), 308 нм
  • XeF (ксенон-фторид), 351 нм

Все эти лазеры работают в ультрафиолетовом диапазоне, что делает их особенно полезными для задач, требующих высокой пространственной разрешающей способности — таких, как фотолитография, прецизионная обработка материалов, медицина.

Механизм возбуждения

Возбуждение активной среды эксимерного лазера осуществляется за счёт мощного электрического разряда, чаще всего — в виде импульсного продольного или поперечного разряда в газовой смеси под давлением, составляющим несколько атмосфер. Энергия разряда возбуждает атомы благородного газа, которые далее реагируют с молекулами галогена, образуя эксиплексы.

Типичная газовая смесь включает:

  • благородный газ (Ar, Kr, Xe) — основной носитель возбуждения
  • галоген (F₂, HCl, XeCl₂ и др.) — источник галогенов для эксиплексов
  • буферный газ (He, Ne) — способствует охлаждению и стабилизации плазмы

Длительность импульсов и особенности генерации

Импульс эксимерного лазера имеет длительность от нескольких до десятков наносекунд. В отличие от многих других газовых лазеров, эксимерные устройства практически всегда работают в импульсном режиме, поскольку эксимерные молекулы имеют очень короткое время жизни (~10⁻⁹ с), и генерация на их основе невозможна в условиях устойчивой непрерывной накачки.

Импульсы могут достигать энергий от нескольких миллиджоулей до нескольких джоулей, при этом обеспечивается высокая пикова́я мощность, что критически важно для применения в лазерной абляции и микрообработке.

Резонаторная структура

Резонаторы эксимерных лазеров имеют сравнительно простую конструкцию, обычно симметричную, с зеркалами, устойчивыми к агрессивному воздействию коррозионных газов. Зеркала часто изготавливаются из материалов с высокой стойкостью к ультрафиолету (MgF₂, CaF₂, Al₂O₃). Для минимизации потерь и компенсации абсорбции в атмосфере лазеры монтируют в герметичных корпусах с продувкой инертным газом или с оптическими окнами.

Кинетика и энергетическая эффективность

Характерная особенность — низкий квантовый выход, обусловленный тем, что большая часть энергии уходит на ионизацию, возбуждение несветящихся состояний и разогрев газа. Типичный КПД составляет 1–3 %.

Для увеличения эффективности применяются схемы с предварительным ионизирующим импульсом (прецидионный разряд), который создаёт начальное распределение электронов, облегчая запуск основного разряда и снижая его флуктуации.

Особенности лазерного излучения

  • Длина волны — фиксирована типом молекулы, с узким спектральным контуром (0,1–1 нм)
  • Мощность — высокая импульсная, но низкая средняя
  • Поляризация — как правило, неконтролируемая без внешних элементов
  • Дифракционная ширина пучка — малое значение, хорошая фокусируемость
  • Когерентность — пространственная высокая, временная умеренная (из-за короткого импульса)

Преимущества эксимерных лазеров

  • Генерация в глубоком УФ-диапазоне, невозможном для большинства других типов лазеров
  • Высокая энергия импульса и короткая длительность — идеальны для абляции
  • Способность к работе с высокой повторяемостью (до кГц)
  • Возможность точного микромашинирования без термического повреждения окружающей области

Недостатки и технологические ограничения

  • Сложность в обслуживании и эксплуатации: агрессивные газы, высокая температура и давление
  • Быстрое старение активной смеси, требующее периодической её замены
  • Низкий КПД, необходимость мощных источников питания
  • Жёсткие требования к оптике: прозрачность в УФ и устойчивость к эрозии

Применения эксимерных лазеров

  • Микроэлектроника: фотолитография для производства интегральных схем с критическими размерами <10 нм
  • Медицина: рефракционная хирургия роговицы (лазер LASIK), удаление тканей без ожогов
  • Материаловедение: модификация поверхностей, отжиг тонкоплёночных структур
  • Спектроскопия: возбуждение флуоресценции в УФ, временное разрешение процессов
  • Научные исследования: лазерная абляция, плазменная диагностика, генерация ультракоротких импульсов в комбинации с другими системами

Перспективы развития

Несмотря на появление альтернативных источников УФ-излучения (например, лазеров на твердотельных средах с удвоением/утроением частоты), эксимерные лазеры сохраняют уникальные преимущества. Современные разработки направлены на:

  • повышение долговечности и стабильности газа
  • миниатюризацию и автоматизацию систем замены смесей
  • улучшение стабильности импульса
  • интеграцию с высокопроизводительными оптоэлектронными платформами

Эксимерные лазеры остаются незаменимыми в ряде критически важных задач, требующих сочетания высокой пространственной точности, короткой длительности импульса и ультрафиолетового спектрального диапазона.