Спиновые полевые транзисторы (Spin Field-Effect Transistors,
Spin-FET) представляют собой устройства, в которых управление током
осуществляется не только электрическим полем, но и спиновой поляризацией
электронов. В отличие от традиционных ФЭТ, где ток определяется
концентрацией носителей заряда, в спиновых транзисторах ключевую роль
играет направление спина электрона.
Ключевые компоненты Spin-FET:
- Источник и сток с ферромагнитной поляризацией —
создают спиновую селективность инжекции и детекции тока.
- Полупроводниковый канал — среда, через которую
электроны проходят, сохраняя или изменяя свою спиновую ориентацию.
- Затвор (Gate) — формирует электрическое поле,
влияющее на спиновую предобработку и вращение спина (спиновая прецессия)
в канале.
Эффективность работы Spin-FET определяется степенью сохранения
спиновой поляризации при прохождении через канал, а также возможностью
управления этим спином электрическим полем.
Механизмы инжекции и
детектирования спина
Для эффективного функционирования спинового транзистора критически
важно обеспечить высокую степень спиновой поляризации тока на входе и
чувствительность к спину на выходе. Основные механизмы:
Ферромагнитная инжекция:
- Электроны с определенной спиновой ориентацией инжектируются из
ферромагнитного источника в полупроводниковый канал.
- Эффективность зависит от согласования проводимости ферромагнетика и
полупроводника (conductivity mismatch problem).
Туннельная инжекция через барьер:
- Использование тонкого изолирующего слоя между ферромагнетиком и
полупроводником уменьшает потери спиновой поляризации.
- Применяются окисные или магнитно-индуцированные туннельные
барьеры.
Детектирование спина на стоке:
- Применяются ферромагнитные контакты с анализаторами спина.
- Сопротивление контакта зависит от взаимной ориентации спинов
электронов в канале и магнитного направления ферромагнетика.
Спиновая прецессия и
управление током
Основной принцип работы Spin-FET основан на контролируемой прецессии
спина электрона в канале. Электрическое поле затвора вызывает эффект
Рашбы (Rashba spin-orbit interaction), который приводит к вращению спина
на определенный угол.
Основные моменты:
- Эффект Рашбы: появляется в асимметричных
гетероструктурах и позволяет электрическим полем управлять скоростью
прецессии спина.
- Угол прецессии θ определяется длиной канала L и силой спин-орбитального
взаимодействия α:
$$
\theta = \frac{2 m^* \alpha L}{\hbar^2}
$$
где m* —
эффективная масса электрона, ℏ —
приведенная постоянная Планка.
- Контроль тока: в зависимости от того, совпадает ли
ориентация спинов на выходе с магнитным направлением стока, ток либо
проходит, либо блокируется. Это создает спин-зависимое
переключение.
Материалы для спиновых
транзисторов
Выбор материала критически важен для сохранения спиновой
когерентности:
- Полупроводники с высокой подвижностью — GaAs,
InGaAs, Si.
- Ферромагнитные контакты — Co, NiFe, Heusler-сплавы
для высокой степени спиновой поляризации.
- Туннельные барьеры — MgO, Al₂O₃, обеспечивающие
эффективную инжекцию спина.
Для достижения долговременной спиновой когерентности важны низкая
рассеянность и минимальные взаимодействия спина с дефектами
кристаллической решетки.
Температурные и длиновые
ограничения
Сохранение спиновой поляризации сильно зависит от:
- Длины канала: спины рассеиваются на дефектах и
колебаниях решетки. Максимальная длина канала ограничена
спин-диффузионной длиной Ls.
- Температуры: при повышении температуры спиновые
релаксационные процессы ускоряются, уменьшая эффективность
Spin-FET.
Физически Ls определяется
временем релаксации спина τs и
диффузионной константой D:
$$
L_s = \sqrt{D \tau_s}
$$
Для типичных III–V полупроводников при комнатной температуре Ls ∼ 1 − 2 μм.
Применение и перспективы
Spin-FET открывает возможности для:
- Энергосберегающей логики — спиновые устройства
требуют меньших энергозатрат для переключения.
- Наноскопической памяти — спин-переключение
позволяет создавать нестираемую память.
- Квантовых вычислений — спин является квантовым
битом, что делает возможным реализацию спин-квантовых схем.
Ключевой вызов современного Spin-FET — интеграция высокоспиновой
инжекции и сохранение когерентности при комнатной температуре.
Достижения в области гетероструктур с сильным эффектом Рашбы и новых
ферромагнитных материалов открывают перспективы для массового
внедрения.