Принцип метода эллипсометрии
Эллипсометрия — это оптический метод, основанный на измерении изменения состояния поляризации света при отражении или прохождении через поверхность образца. При падении поляризованного света на границу раздела сред изменяются как амплитуды, так и фазы компонент электрического поля, параллельной (p) и перпендикулярной (s) плоскости падения. Эти изменения описываются комплексным коэффициентом отражения для каждой компоненты:
$$ r_p = \frac{E_{p,отраж}}{E_{p,пад}}, \quad r_s = \frac{E_{s,отраж}}{E_{s,пад}} $$
Отношение этих коэффициентов отражения характеризуется величиной:
$$ \rho = \frac{r_p}{r_s} = \tan\Psi \, e^{i\Delta} $$
где
Измерение Ψ и Δ позволяет определить оптические константы материала (показатель преломления n, коэффициент поглощения k), а также толщину и структуру тонких плёнок.
Оптические константы и модельный анализ
Для описания взаимодействия света с поверхностью используется комплексный показатель преломления:
ñ = n + ik
Параметры n и k зависят от частоты света и содержат информацию о дисперсии и поглощении. При наличии тонких плёнок на подложке поведение отражённых волн описывается интерференцией многократных отражений. Математическая модель, основанная на уравнениях Френеля, позволяет связать измеренные Ψ и Δ с толщиной слоя и его оптическими константами.
Если образец состоит из многослойной структуры, каждый слой описывается матрицей переноса, учитывающей фазовый набег и амплитудные изменения. Решение обратной задачи требует аппроксимации экспериментальных данных с использованием подходящих дисперсионных моделей (Коши, Друде, Таука–Лоренца и др.).
Виды эллипсометрии
Спектральная эллипсометрия Измерения проводятся в широком спектральном диапазоне, что позволяет одновременно получать дисперсионные кривые n(λ) и k(λ), а также определять толщины слоёв от нескольких ангстрем до нескольких микрометров.
Временная (time-resolved) эллипсометрия Методика, применяемая для регистрации изменений оптических свойств в реальном времени, например, при росте плёнок или под действием внешнего воздействия (температурного, электрического, лазерного).
Угловая эллипсометрия Измерения проводят при различных углах падения для повышения точности определения параметров.
Поляризационно-модуляционная эллипсометрия Использует быстрые модуляции состояния поляризации с помощью фотоэластических или электрооптических модуляторов для повышения чувствительности.
Аппаратура и измерительная схема
Классическая установка состоит из следующих элементов:
В простейшей схеме используют конфигурацию «поляризатор–образец–анализатор», но для повышения точности вводят модуляторы и автоматизированную смену углов.
Физические основы чувствительности метода
Эллипсометрия обладает высокой чувствительностью к изменениям толщины и оптических свойств тонких слоёв. Даже слой толщиной порядка 1 Å изменяет фазовое соотношение между p- и s-компонентами достаточно, чтобы это было зафиксировано. Это объясняется интерференционной природой отражённого сигнала: малые изменения в фазовом набеге, вызванные изменением толщины или показателя преломления, заметно сказываются на параметрах Ψ и Δ.
Особенно высокая точность достигается при работе вблизи угла Брюстера, когда амплитуда p-компоненты резко уменьшается, и фазовые изменения становятся более заметными.
Применения в физике конденсированного состояния
Теоретические модели для анализа данных
Модель Коши Используется для диэлектриков с малым поглощением. Представляет показатель преломления в виде:
$$ n(\lambda) = A + \frac{B}{\lambda^2} + \frac{C}{\lambda^4} $$
Модель Друде Применяется для описания свободных носителей в металлах и полупроводниках:
$$ \varepsilon(\omega) = \varepsilon_\infty - \frac{\omega_p^2}{\omega^2 + i\gamma \omega} $$
Модель Таука–Лоренца Описывает комбинацию межзонных переходов и поглощения свободными носителями, полезна для аморфных и кристаллических полупроводников.
Выбор модели определяется природой исследуемого материала и диапазоном длин волн.