Понятие структурного фактора
В рентгеновской, нейтронной и электронно-дифракционной кристаллографии структурный фактор является фундаментальной величиной, определяющей амплитуду и фазу когерентно рассеянной волны от кристалла при заданном векторе обратного пространства. Он описывает, как атомы внутри элементарной ячейки распределены в пространстве и как их взаимное расположение влияет на интерференционную картину.
При дифракции каждая элементарная ячейка действует как когерентный источник вторичных волн, возникающих вследствие взаимодействия падающего излучения с электронами (для рентгеновских лучей) или с ядрами и магнитными моментами (для нейтронов). Полная амплитуда отражённого пучка получается как результат суперпозиции волн, рассеянных отдельными атомами в пределах одной ячейки, с учётом их относительных положений и фазовых сдвигов.
Математическое определение
Структурный фактор F(h) для отражения, соответствующего вектору обратной решётки
h = ha* + kb* + lc*
(где h, k, l — целые индексы Миллера, а a*, b*, c* — базисные векторы обратной решётки), записывается как
$$ F_{hkl} = \sum_{j=1}^{N} f_j(\mathbf{h}) \, e^{2\pi i (h x_j + k y_j + l z_j)} $$
где:
Физический смысл
Структурный фактор играет роль комплексной амплитуды отражённого излучения. Его модуль |Fhkl| определяет интенсивность дифракционного пика:
Ihkl ∝ |Fhkl|2
а его аргумент φhkl = arg (Fhkl) определяет фазу волны. Именно фазовая информация, которая напрямую не измеряется в экспериментах, является центральной проблемой в решении обратной задачи кристаллографии.
Влияние симметрии и выборочных правил
Симметрия кристаллической структуры и группы пространства напрямую влияют на форму структурного фактора. Для некоторых комбинаций h, k, l структурный фактор может обращаться в ноль из-за взаимной интерференции волн от разных атомов. Это явление называют взаимным гашением (extinction rules).
Например:
Fhkl = f для всех h, k, l
— нет запрещённых отражений.
Fhkl ∝ 1 + eπi(h + k + l)
— отражения существуют только при h + k + l = чётное.
Fhkl ∝ 1 + eπi(k + l) + eπi(h + l) + eπi(h + k)
— разрешены отражения только при одинаковой чётности индексов.
Атомный форм-фактор
Величина fj(h) описывает, как отдельный атом рассеивает падающее излучение. Для рентгеновской дифракции атомный форм-фактор уменьшается с увеличением угла рассеяния из-за конечных размеров электронной оболочки. При малых углах он приближается к числу электронов атома Z. Для нейтронов, в отличие от рентгенов, форм-фактор практически не зависит от угла и определяется ядерным сечением рассеяния.
Температурный (Дебая-Валлера) множитель
Тепловые колебания атомов вносят дополнительный множитель в структурный фактор:
Fhkl → Fhkl ⋅ e−B(sin θ/λ)2
где B — параметр Дебая-Валлера, θ — угол Брэгга, λ — длина волны. Этот фактор учитывает снижение интенсивности при высоких температурах и для больших углов рассеяния.
Роль структурного фактора в кристаллографии
Структурный фактор — это связующее звено между реальным пространством и обратным пространством. Он обеспечивает математическую основу для перехода от экспериментальных дифракционных данных к реальной атомной модели кристалла. Его вычисление требует знания координат атомов, а восстановление структуры — знания как амплитуд, так и фаз, что лежит в основе методов прямого решения фазовой проблемы.