Дефекты кристаллической решётки представляют собой отклонения
атомного строения реального кристалла от идеальной периодической
структуры. Они оказывают существенное влияние на механические,
электрические, тепловые и оптические свойства материалов, а их изучение
является ключевым для материаловедения и физики твёрдого тела. В
зависимости от природы и масштаба дефекты подразделяются на несколько
категорий.
1. Точечные дефекты
Точечные дефекты – это нарушения кристаллической структуры,
локализованные на уровне отдельных атомов или ионов. Они включают:
1.1. Вакансии Вакансия – это отсутствие атома в узле
кристаллической решётки.
- Вакансии образуются при нагревании, поскольку повышение температуры
увеличивает вероятность того, что атом покинет узел.
- Влияние на свойства: увеличивают диффузию, изменяют электрические и
тепловые характеристики.
- Концентрация вакансий nv подчиняется
экспоненциальной зависимости:
$$
n_v = N \exp\left(-\frac{E_v}{k_B T}\right)
$$
где N — число узлов в
решётке, Ev — энергия
образования вакансии, kB — постоянная
Больцмана, T —
температура.
1.2. Междоузельные атомы (интерстициальные дефекты)
Атом помещается в промежуток между узлами решётки.
- Чаще всего встречаются у малых атомов (например, водород, углерод в
металлах).
- Образуют напряжённые поля, влияя на механические свойства (повышают
твёрдость и предел текучести).
1.3. Замещающие атомы (примесные дефекты) Ион или
атом другого элемента занимает место атома основного вещества.
- Важны при легировании полупроводников и сплавов.
- Изменяют проводимость, магнитные свойства и прочность
материала.
2. Линейные дефекты
(дислокации)
Дислокации – это линии искажений в кристаллической решётке. Их
наличие облегчает пластическую деформацию.
2.1. Винтовые дислокации
- Представляют собой спиральное смещение атомных плоскостей вокруг
линии дислокации.
- Основной параметр: вектор Бюргерса b, характеризующий величину
смещения.
2.2. Крайовые дислокации
- Возникают, когда добавляется или удаляется полуплоскость
атомов.
- Линия дислокации перпендикулярна вектору смещения.
2.3. Комбинированные (смешанные) дислокации
- Сочетают характеристики винтовых и краевых дислокаций.
- Наиболее распространены в реальных кристаллах.
Дислокации определяют пластичность металлов: их движение под
действием внешних сил облегчает деформацию без разрушения кристалла.
3. Плоскостные дефекты
Плоскостные дефекты локализованы на уровне целых плоскостей
кристалла. Основные виды:
3.1. Границы зерен
- Разделяют кристаллы (зерна) различной ориентации в
поликристаллах.
- Границы могут быть высокоэнергетическими, влияя на диффузию и
коррозионную стойкость.
3.2. Твиннинг (девиации кристаллической
ориентации)
- Плоскость, зеркально отражённая относительно основной решётки.
- Влияет на пластические свойства и прочность материала.
3.3. Структурные дислокации на поверхности (stacking
faults)
- Нарушение чередования атомных слоёв.
- Влияет на движение дислокаций и механическую прочность.
4. Объёмные дефекты
Объёмные дефекты распространяются на значительную часть кристалла и
включают:
4.1. Поры и пустоты
- Возникают при кристаллизации или спекании порошков.
- Могут уменьшать плотность и снижать механическую прочность.
4.2. Трещины и микротрещины
- Локализованное разрушение структуры.
- Источник хрупкости материала и очаг для коррозионных процессов.
4.3. Включения посторонних фаз
- Неполнота растворения примесей или вторичных фаз.
- Могут служить центрами разрушения или инициаторами пластической
деформации.
5. Дефекты в полупроводниках
В полупроводниках дефекты играют ключевую роль в формировании
проводимости:
- Вакансии и междоузельные атомы создают донорные или
акцепторные уровни.
- Примесные атомы легируют полупроводники для
получения n- или p-типа проводимости.
- Комплексные дефекты (вакансия+примесный атом) могут
существенно менять электрические характеристики.
6. Влияние дефектов на
свойства материалов
- Механические свойства: дислокации и твины
увеличивают пластичность, поры и трещины уменьшают прочность.
- Тепловые свойства: вакансии и границы зерен снижают
теплопроводность.
- Электрические свойства: примесные и междоузельные
атомы регулируют проводимость.
- Оптические свойства: дефекты могут вызывать
поглощение света и люминесценцию.
7. Методы изучения дефектов
Для анализа дефектов применяются разнообразные экспериментальные
методы:
- Рентгеновская дифракция (XRD) — выявление
напряжений, дислокаций и деформаций.
- Электронная микроскопия (TEM, SEM) — визуализация
линейных и плоскостных дефектов.
- Методы диффузии и магнитного резонанса — изучение
точечных дефектов.
- Оптические методы и люминесценция — анализ примесей
и вакансий в полупроводниках.