В полупроводниках процессы рекомбинации электронов и дырок могут протекать как с излучением фотонов (излучательная рекомбинация), так и без него — в форме передачи энергии колебательным степеням свободы кристаллической решётки или другим носителям заряда. Последний тип процессов называется безызлучательной рекомбинацией. Она играет критически важную роль в определении эффективности фото- и оптоэлектронных приборов, поскольку приводит к потерям энергии и снижает квантовый выход.
Ключевая особенность безызлучательных процессов заключается в том, что энергия перехода не покидает материал в виде электромагнитного излучения, а рассеивается внутри кристалла.
Наиболее распространённый механизм безызлучательной рекомбинации — процесс Шокли–Рида–Холла (ШРХ-рекомбинация). Он осуществляется через энергетические уровни, создаваемые примесями или дефектами в запрещённой зоне.
Скорость рекомбинации через такие центры описывается выражением:
$$ U = \frac{np - n_i^2}{\tau_p (n+n_1) + \tau_n (p+p_1)}, $$
где
Центры с энергией, расположенной ближе к середине запрещённой зоны, наиболее эффективно участвуют в ШРХ-рекомбинации, поскольку обладают высокой вероятностью захвата как электронов, так и дырок.
Другим важным механизмом безызлучательной рекомбинации является Аuger-рекомбинация. В этом случае энергия, высвобождающаяся при рекомбинации электрона и дырки, передаётся третьему носителю заряда — электрону или дырке, находящемуся вблизи зоны проводимости или валентной зоны.
Эффективность Auger-рекомбинации особенно велика при высоких концентрациях носителей (например, при сильном освещении, инжекции или в сильно легированных полупроводниках). Скорость процесса пропорциональна кубу концентрации носителей:
RAuger = Cnn2p + Cpnp2,
где Cn и Cp — коэффициенты Auger-процессов для электронов и дырок.
Этот механизм играет ключевую роль в ограничении максимальной плотности инжекции в светодиодах и лазерах.
Безызлучательные процессы могут протекать и на поверхности полупроводника. Здесь из-за разрыва периодичности кристаллической решётки образуются локализованные состояния, способные эффективно захватывать носители заряда.
Скорость поверхностной рекомбинации характеризуется параметром скорости поверхностной рекомбинации S:
Rs = S ⋅ Δn,
где Δn — избыток концентрации носителей.
Поверхностная рекомбинация особенно значима в устройствах с большой удельной поверхностью (тонкие плёнки, наноструктуры), а также в солнечных элементах, где каждая потеря носителей снижает эффективность преобразования энергии. Для уменьшения этого эффекта применяют пассивацию поверхности — нанесение слоёв диэлектрика или создание химических связей, устраняющих поверхностные состояния.
Даже в идеальном кристалле без дефектов возможна безызлучательная рекомбинация, обусловленная многократным участием фононов. В этом случае процесс сопровождается передачей энергии решётке через квантованные колебания. Вероятность подобных процессов сравнительно мала, но в материалах с сильным электрон-фононным взаимодействием она может приобретать существенное значение.
Таким образом, соотношение различных механизмов безызлучательной рекомбинации сильно зависит от условий, в которых находится полупроводник.
Безызлучательная рекомбинация определяет:
Снижение вероятности безызлучательных процессов — одна из ключевых задач в инженерии полупроводников. Для этого применяют: