Оптическая генерация носителей заряда в полупроводниках связана с процессами поглощения света и переходами электронов из валентной зоны в зону проводимости. При поглощении фотона с энергией, превышающей или равной ширине запрещённой зоны Eg, электрон получает возможность преодолеть энергетический барьер и перейти в зону проводимости, оставляя за собой дырку в валентной зоне. Таким образом образуется пара электрон–дырка.
Вероятность поглощения фотона зависит от энергетической структуры полупроводника, плотности состояний в зонах и коэффициента поглощения материала. Величина коэффициента поглощения α(ℏω) определяется как функция энергии фотона ℏω и показывает интенсивность ослабления светового потока при прохождении через вещество.
Характер оптических переходов существенно зависит от типа запрещённой зоны.
Прямозонные полупроводники (GaAs, InP): электронные переходы происходят без участия фононов, так как минимум зоны проводимости и максимум валентной зоны совпадают по волновому вектору. Это обеспечивает высокую вероятность оптической генерации при энергиях фотонов, близких к Eg.
Непрямозонные полупроводники (Si, Ge): для перехода электрона требуется участие фонона, который компенсирует разность волновых векторов. Вероятность таких переходов ниже, поэтому коэффициент поглощения вблизи края зоны значительно меньше, чем в прямозонных материалах.
Если ℏω < Eg, фотон не может создать электрон–дырочную пару, но может вызвать другие процессы — например, возбуждение локализованных уровней примесей или фотовозбуждение колебаний решётки. При ℏω ≈ Eg наблюдается резкий рост коэффициента поглощения. Для энергий, значительно превышающих Eg, возможна ионизация глубоких уровней примесей и генерация горячих носителей с избыточной энергией.
Плотность пар, генерируемых за единицу времени в объёме полупроводника, описывается выражением:
G(x) = αI0e−αx/ℏω,
где
Таким образом, распределение сгенерированных носителей по глубине носит экспоненциальный характер: максимальная генерация происходит вблизи поверхности.
Сразу после оптической генерации начинается процесс рекомбинации электронов и дырок. Время жизни носителей τ определяет, насколько эффективно свет может изменить концентрацию свободных зарядов. При большом τ концентрация носителей существенно возрастает, обеспечивая заметное изменение проводимости и других электрических характеристик полупроводника.
При интенсивном освещении возникает режим высокой генерации, когда концентрация неравновесных носителей становится сравнимой или даже превышает равновесную концентрацию. В этом случае:
Примесные атомы и дефекты играют ключевую роль в процессах оптической генерации. Они могут:
Особенно важна оптическая генерация в p–n-переходах. При освещении области перехода пары электрон–дырка разделяются внутренним электрическим полем: электроны уносятся в n-область, а дырки в p-область. Это лежит в основе работы фотодиодов, солнечных элементов и светочувствительных транзисторов. Величина фототока определяется не только интенсивностью генерации, но и эффективностью разделения носителей полем перехода.
Важнейшая характеристика — квантовый выход η, показывающий долю поглощённых фотонов, приведших к генерации свободных носителей. В идеальных прямозонных полупроводниках η ≈ 1 при энергиях фотонов, равных или немного превышающих Eg. В реальных материалах квантовый выход может снижаться из-за процессов безызлучательной рекомбинации и отражения света от поверхности.
Оптическая генерация лежит в основе работы множества приборов:
Эффективность приборов определяется комбинацией параметров: шириной запрещённой зоны, коэффициентом поглощения, временем жизни носителей и качеством поверхности материала.