При обратном смещении на p-n переходе в области пространственного заряда создаётся сильное электрическое поле. В условиях низкого напряжения через переход течёт лишь слабый ток обратной насыщенности, обусловленный термической генерацией неосновных носителей. Однако при достижении критического напряжения возникает резкое возрастание тока — пробой p-n перехода.
Пробой не означает механического разрушения структуры, а связан с физическими процессами, усиливающими токоперенос. При этом напряжение на переходе практически перестаёт расти, а ток увеличивается экспоненциально. В зависимости от механизма различают лавинный пробой и туннельный (зонный) пробой.
Лавинный пробой наблюдается в переходах с относительно слабым легированием и широкой областью обеднения. При достаточно высоком обратном напряжении электроны и дырки, ускоряемые электрическим полем, приобретают энергию, достаточную для ударной ионизации атомов кристалла.
Механизм процесса:
Условием лавинного пробоя является достижение коэффициента ударной ионизации значения, при котором один носитель в среднем порождает ещё одного на длине перехода.
Характерные особенности лавинного пробоя:
В переходах с высоким уровнем легирования p- и n-областей область обеднения получается очень узкой (несколько нанометров). При наложении обратного напряжения энергетические зоны смещаются таким образом, что заполненные состояния валентной зоны p-области оказываются напротив свободных уровней зоны проводимости n-области.
Механизм процесса:
Особенности туннельного пробоя:
Такой пробой характерен для сильно легированных диодов и известен как эффект Зенера, поэтому туннельный пробой иногда называют зенеровским пробоем.
Признак | Лавинный пробой | Туннельный (зенеровский) пробой |
---|---|---|
Уровень легирования | Низкий или средний | Очень высокий |
Ширина обеднённого слоя | Широкая | Узкая |
Напряжение пробоя | Десятки – сотни вольт | Несколько вольт |
Температурная зависимость | Напряжение пробоя увеличивается при росте температуры | Напряжение пробоя уменьшается при росте температуры |
Физический механизм | Ударная ионизация | Квантовое туннелирование |
В реальных структурах при промежуточных концентрациях примесей и толщине барьера могут одновременно протекать оба механизма. В этом случае характеристика пробоя формируется совместным вкладом лавинной и туннельной составляющих.
Область применения:
Если ток пробоя не ограничен внешней цепью, выделяющаяся тепловая мощность может привести к локальному перегреву перехода и его разрушению. Поэтому при проектировании диодов указывается максимально допустимая мощность рассеяния в режиме пробоя.
Важно различать:
При обратном смещении ВАХ имеет участок насыщения (обратный ток практически не зависит от напряжения). При достижении напряжения пробоя происходит резкий рост тока. В зависимости от механизма пробоя крутизна ВАХ различается:
Такое поведение используется в электронной технике для стабилизации напряжения, защиты цепей от перенапряжений и в качестве элемента переключения в некоторых типах приборов.