Соединения типа AIIIBV образуются элементами из III и V групп периодической системы и представляют собой важнейший класс полупроводниковых материалов. Наиболее известные представители – GaAs, InP, GaP, InAs, AlAs и другие. Их структура обычно изотипна структуре цинковой обманки (кубическая решётка) или вурцита (гексагональная решётка).
Ковалентная природа связи в этих кристаллах сочетается с заметным ионным вкладом: атомы III группы (доноры электронов) отдают часть своей электронной плотности атомам V группы (акцепторам), что обусловливает специфические электронные свойства. Степень ионности связи изменяется от 20 до 50% в зависимости от конкретного соединения. Это определяет ширину запрещённой зоны, энергию дефектов и особенности фото- и электропроводимости.
Ширина запрещённой зоны соединений AIIIBV варьируется в широких пределах:
Эти значения делают возможным использование материалов как в инфракрасной, так и в видимой и даже ультрафиолетовой областях спектра. Наличие прямой или косвенной запрещённой зоны определяет эффективность излучательных переходов: прямозонные материалы, такие как GaAs, широко применяются в лазерах и светоизлучающих диодах, тогда как косвенные (например, GaP) используются в светоизлучающих приборах реже и требуют легирования активаторами.
Зонная структура сильно зависит от состава твёрдых растворов (например, GaAs1 − xPx или AlxGa1 − xAs), что позволяет целенаправленно управлять энергетическими параметрами.
Ключевой особенностью соединений AIIIBV является высокая подвижность носителей заряда. Например, в GaAs подвижность электронов при 300 К достигает 8500 см2/(В·с), что значительно превосходит значения для кремния. Это объясняется меньшей эффективной массой электронов и меньшими скоростями рассеяния.
Отличия в подвижности электронов и дырок особенно важны для приборов с полевым управлением и высокочастотных транзисторов. Высокая электронная подвижность делает GaAs и InP незаменимыми материалами для СВЧ-электроники.
Соединения AIIIBV склонны к образованию точечных дефектов из-за неэквистехиометрии, что связано с летучестью компонентов V группы (As, P, Sb). В кристаллах часто встречаются вакансии атомов As, антиструктурные дефекты (Ga на месте As и наоборот), что приводит к появлению глубоких ловушек и компенсирующих центров.
Наличие глубоких уровней сильно влияет на рекомбинационные процессы: они снижают квантовый выход излучения и ухудшают характеристики диодов. Управление концентрацией дефектов достигается использованием строгого контроля условий роста (метод Чохральского, метод горизонтальной направленной кристаллизации, молекулярно-лучевая эпитаксия).
Развитие технологий соединений AIIIBV связано с совершенствованием методов выращивания кристаллов:
Эти технологии открыли путь к созданию гетероструктур, в которых на границе двух материалов формируются уникальные электронные состояния с повышенной подвижностью носителей (двумерный электронный газ).
Соединения AIIIBV отличаются высокой эффективностью межзонного излучения. Прямозонные материалы обладают высоким коэффициентом поглощения и излучательной рекомбинации, что делает их основой оптоэлектроники.
Ключевые направления применения:
Регулировка ширины запрещённой зоны путём варьирования состава твёрдых растворов позволяет проектировать приборы, работающие в заданном спектральном диапазоне.
Высокая подвижность, возможность формирования гетероструктур и совместимость с интегральной технологией сделали соединения AIIIBV ключевыми материалами для:
Наибольшие достижения связаны с использованием соединений AIIIBV в гетероструктурах. При сочетании материалов с разной шириной запрещённой зоны и разными электронными свойствами формируются потенциальные барьеры, квантовые ямы и сверхрешётки. Это дало возможность:
Развитие квантовой электроники и фотоники напрямую связано с этими материалами.