Туннельный диод представляет собой сильно легированный p-n переход, в котором концентрация доноров и акцепторов достигает 10¹⁹–10²⁰ см⁻³. В результате этого резко сужается область пространственного заряда, а потенциал барьера на p-n переходе становится крайне малым, порядка десятков милливольт. Такое устройство обеспечивает возможность квантового туннелирования носителей через потенциальный барьер.
В туннельных диодах перенос заряда осуществляется не только классическим дрейфом и диффузией, но и через квантовый эффект туннелирования. На энергетической диаграмме это проявляется как наложение зон проводимости n-области и валентной зоны p-области. Электроны могут мгновенно переходить через барьер, минуя классическую область запрещенной энергии.
Высокая концентрация легирующих примесей приводит к вырождению электронного газа в n-области и дырочного газа в p-области. При этом уровни Ферми смещаются в зоны проводимости и валентной зоны соответственно, что создает условие для туннелирования:
Туннельный ток зависит экспоненциально от толщины барьера и от плотности состояний на границах зон, что делает его крайне чувствительным к легированию и температуре.
Особенностью туннельного диода является область отрицательного дифференциального сопротивления (ОДДС). Основные этапы ВАХ:
ОДДС делает туннельный диод уникальным элементом для генерации высокочастотных колебаний и в схемах переключения.
Туннельный ток практически не зависит от температуры, поскольку процесс туннелирования определяется квантовой вероятностью перехода через барьер, а не тепловой активацией. Однако классический диффузионный компонент тока возрастает с температурой, что смещает точку минимального дифференциального сопротивления и увеличивает общий ток диода.
Благодаря этому туннельные диоды обладают высокой температурной стабильностью в диапазоне низких напряжений, что делает их предпочтительными для микроволновых и быстрых коммутационных схем.
Основные области применения:
Для получения выраженного туннельного эффекта необходимо строгое соблюдение технологии легирования:
Эти параметры определяют интенсивность туннельного тока и ширину области отрицательного дифференциального сопротивления, что критично для проектирования высокочастотных схем.