Внутренний фотоэффект представляет собой генерацию носителей заряда в полупроводнике под действием поглощённого света, когда кванты электромагнитного излучения возбуждают электроны из валентной зоны в зону проводимости. Этот процесс лежит в основе целого ряда оптоэлектронных явлений и приборов, включая фотодиоды, солнечные элементы и фотопроводящие устройства.
При облучении полупроводника фотонами с энергией hν, превышающей или равной ширине запрещённой зоны Eg, возможен межзонный переход: электрон из валентной зоны переходит в зону проводимости, а на его месте образуется дырка. Таким образом, под действием света происходит увеличение концентрации свободных носителей заряда: электронов и дырок.
Основное условие проявления внутреннего фотоэффекта:
hν ≥ Eg
где h — постоянная Планка, ν — частота излучения, Eg — ширина запрещённой зоны.
Если энергия фотона меньше Eg, прямое возбуждение через межзонный переход невозможно, однако возможны косвенные переходы с участием фононов в полупроводниках с непрямой зонной структурой (например, в кремнии).
Коэффициент поглощения α(ν) зависит от частоты излучения и от характера зоны (прямая или непрямая).
Интенсивность света в веществе убывает по закону:
I(x) = I0e−αx
где I0 — начальная интенсивность излучения, x — глубина проникновения.
Таким образом, образование электронно-дырочных пар преимущественно происходит в приповерхностном слое полупроводника, толщина которого определяется длиной проникновения света α−1.
После возбуждения электронов в зоне проводимости возникает неравновесная концентрация носителей заряда. Ее эволюция определяется балансом процессов:
Рекомбинация может происходить различными путями:
Уравнение баланса концентрации неравновесных носителей:
$$ \frac{dn}{dt} = G - \frac{n}{\tau} $$
где τ — среднее время жизни носителей, n — избыточная концентрация электронов (или дырок).
В стационарном режиме:
n = Gτ
Эффективность генерации носителей определяется спектральной характеристикой полупроводника:
Спектральная зависимость внутреннего фотоэффекта позволяет экспериментально определять ширину запрещённой зоны полупроводников.
Квантовый выход фотоэффекта определяется как отношение числа созданных пар электрон–дырка к числу поглощённых фотонов:
$$ \eta = \frac{N_{eh}}{N_{\text{фотонов}}} $$
Реальное значение η меньше единицы из-за рекомбинации носителей вблизи поверхности и неполного поглощения излучения. Для высококачественных полупроводников с прямыми переходами η может достигать 0.8–0.9.
Внутренний фотоэффект следует отличать от внешнего: в первом случае носители остаются внутри кристалла и лишь изменяют его электропроводность или создают фото-ЭДС, а во втором — электроны выбиваются из вещества наружу.
Фотопроводимость Увеличение проводимости полупроводника под действием света используется в фотосопротивлениях. Их чувствительность зависит от ширины запрещённой зоны и времени жизни носителей.
Фотодиоды В p–n переходах световая генерация носителей приводит к возникновению фототока. В режиме обратного смещения фотодиоды работают как чувствительные детекторы излучения.
Солнечные элементы Внутренний фотоэффект лежит в основе преобразования энергии солнечного излучения в электрическую. Фото-ЭДС возникает за счёт разделения носителей в p–n переходе.
Фототранзисторы Используют усиление фототока за счёт транзисторного эффекта, что позволяет повысить чувствительность по сравнению с фотодиодами.
Примесные уровни могут существенно менять характер внутреннего фотоэффекта:
Ширина запрещённой зоны Eg уменьшается с ростом температуры, что приводит к смещению длинноволнового края спектра фоточувствительности в сторону больших длин волн. Кроме того, время жизни носителей сокращается, а вероятность нерадиативной рекомбинации возрастает.
Таким образом, температурные эффекты определяют рабочий диапазон оптоэлектронных приборов, основанных на внутреннем фотоэффекте.